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鉬靶材
純度：99.95%；
鉬旋轉(zhuǎn)靶采用熱等靜壓工藝，可生產(chǎn)最大長(zhǎng)度4000mm，厚度根據(jù)客戶要求定制。
鉬平面靶采用熱等靜壓工藝，可生產(chǎn)最大長(zhǎng)度2500mm，最大寬度400mm，尺寸可根據(jù)客戶要求加工。
應(yīng)用：廣泛用于導(dǎo)電玻璃、STN/TN/TFT-LCD、光學(xué)玻璃、離子鍍膜、物理濺射鍍膜和太陽能等行業(yè)及乳腺X射線管醫(yī)療行業(yè)等，適用所有平面鍍膜及旋轉(zhuǎn)鍍膜系統(tǒng)。
應(yīng)用領(lǐng)域：薄膜太陽能工業(yè)，低輻射玻璃工業(yè)，平板顯示工業(yè)，光學(xué)鍍膜工業(yè)，工具及裝飾鍍膜工業(yè)。