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錸靶材
錸靶材用于磁控濺射鍍膜，磁控濺射鍍膜是一種新型的物理氣相（PVD）鍍膜方式，相比于蒸發(fā)鍍膜方式，其在很多方面有相當(dāng)明顯的優(yōu)勢(shì)，作為一項(xiàng)已經(jīng)發(fā)展得較為成熟的技術(shù)，磁控濺射已經(jīng)被應(yīng)用于許多領(lǐng)域，比如在半導(dǎo)體集成電路、太陽能光伏、記錄介質(zhì)、平面顯示以及工件表面涂層等方面都得到了廣泛應(yīng)用。
純度：99.99%，99.999%；
可提供各種規(guī)格的錸濺射靶材，純度高、密度高、致密均勻、晶粒細(xì)，具有優(yōu)良導(dǎo)熱性，從而保證靶材的高效率和高利用率