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目前靶材的制備主要有鑄造法和粉末冶金法。

鑄造法：

　　將一定成分配比的合金原料熔煉，再將合金溶液澆注于模具中，形成鑄錠，最后經(jīng)機(jī)械加工制成靶材，鑄造法在真空中熔煉、鑄造。常用的熔煉方法有真空感應(yīng)熔煉、真空電弧熔煉和真空電子轟擊熔煉等，其優(yōu)點(diǎn)是靶材雜質(zhì)含量（特別是氣體雜質(zhì)含量）低，密度高，可大型化；缺點(diǎn)是對(duì)熔點(diǎn)和密度相差較大的兩種或兩種以上金屬，普通熔煉法難以獲得成分均勻的合金靶材。

粉末冶金法：

　　將一定成分配比的合金原料熔煉，澆注成鑄錠后再粉碎，將粉碎形成的粉末經(jīng)等靜壓成形，再高溫?zé)Y(jié)，最終形成靶材，其優(yōu)點(diǎn)是靶材成分均勻；缺點(diǎn)是密度低，雜質(zhì)含量高等，常用的粉末冶金工藝包括冷壓、真空熱壓和熱等靜壓等。